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产品展示 |
| 产品名称：磷烷氢气混合气 |
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| 产品参数： |
磷烷氢气混合气简介
磷烷是半导体器件制造中的重要 N型掺杂源，同时 磷烷还用于多晶硅化学气相沉淀、外延 Ga P材料、离子注人工艺、MO C V D工艺、磷硅玻璃(PSG)钝化膜制备等工艺中。无色，剧毒，易燃烧气体，带有令人生厌的大蒜味。
产品规格
| 气体 |
纯度 |
杂质含量（ppm） |
钢瓶 |
阀门 |
备注 |
| 1％PH3+H2 |
1+/-0.03％ |
PH3: 6N H2O≤0.1，CO2≤0.1，N2≤0.1，O2+Ar≤0.2，AsH3≤0.1,，THC≤0.1 |
48.8L |
DISS632 |
100KGf/cm2 |
| H2: O2+Ar≤0.1,N2≤0.1,CO≤0.1,CO2≤0.1,THC≤0.1,H2O≤0.1 |
440L |
DISS632 |
产品用途
在电子气家族中，硅烷、磷烷、硼烷、砷烷应用量较大，是IC制造极为重要的原料。其中的磷烷是半导体器件制造中的重要 N型掺杂源，同时 磷烷还用于多晶硅化学气相沉淀、外延 Ga P材料、离子注人工艺、MO C V D工艺、磷硅玻璃(PSG)钝化膜制备等工艺中。
PH3：易燃、易爆、剧毒；其毒性数为：PEL/TLV 0.3×10， STEL 1×10，LC5020×1O，ZDLH200×10，属剧毒危害品。 |
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